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Hallo zusammen,
Ich suche eine Lösung um in Lightroom, im Entwicklungsmodus, beim freistellen die Deckkraft der Maske zu verändern. In PS ist dieses seit eh und je über eine Prozentangabe möglich, siehe screenshot.
Da ich auf Messen zu Vorführungszwecken arbeite, ist es wichtig dass beim freistellen möglichst schnell der Bereich nicht mehr sichtbar ist der abgeschnitten wird.
Ich suche eine Lösung um in Lightroom, im Entwicklungsmodus, beim freistellen die Deckkraft der Maske zu verändern. In PS ist dieses seit eh und je über eine Prozentangabe möglich, siehe screenshot.
Da ich auf Messen zu Vorführungszwecken arbeite, ist es wichtig dass beim freistellen möglichst schnell der Bereich nicht mehr sichtbar ist der abgeschnitten wird.